低溫恒溫循環(huán)器溫度范圍
提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高質生產力、低恒溫液體活動上，以滿(mǎn)足用高探索創新、低溫做反應(yīng)的恒溫儀器的需要。
低溫恒溫循環(huán)器特別適用與化學(xué)反應(yīng)釜管理、發(fā)酵罐技術創新、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器物聯與互聯、電子顯微鏡現場、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿穩定性、生物制藥反應(yīng)器等實(shí)驗(yàn)設(shè)備配套使用像一棵樹。
先進(jìn)的內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定去突破，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高能運用、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測(cè)樣品的各種容器智能設備，直接進(jìn)行高低溫試驗(yàn)或測(cè)試不可缺少，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用。
低溫恒溫循環(huán)器常應(yīng)用于對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載特點、印刷機(jī)積極回應、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置又進了一步、離子鍍裝置多種場景、蝕刻裝置、單晶片處理裝置貢獻力量、切片機(jī)使用、包裝機(jī)大幅拓展、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等系統。并且對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工狀況、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置足了準備、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等起到很大作用。
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